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本人对电化学实验中的缓慢变化的直流进行测量,该直流变化范围在nA(甚至更小)到mA级别,采用电流跟随器转换成电压测量(采用OPA132或是CA3140或是OPA121或是OPA129),现在问题在于本人使用电阻R2、R4来模拟前端系统产生待测电流 i 进入电流跟随器进行测量时可以达到比较好的效果(在使用1M电阻R5的电流跟随器后面B处用FLUKE8050 AC档测量得到6mV交流电压,相当于6nA底噪干扰),但是在接入实际前端系统(乃一溶液系统)后,该直流源就会引入很大的交流干扰(在使用10K电阻R5的电流跟随器后面B处用FLUKE8050 AC档测量得到高达200mV甚至更高的交流电压,相当于至少20μA底噪干扰),在有用直流信号逐渐变小后,该交流噪声还是不减弱,基本恒定,但这时无形中就把有用直流信号湮没。
针对问题作如下分析,考虑下面几种可能:
1.电源干扰:由于电源纹波串入到前端系统,导致噪声增大,但是在使用电阻来模拟的时候噪声还是比较小的,所以可能不是这个问题,但是我已尝试改变过电源,有些许好转;
2.工频干扰:这是做测量中最容易出现的干扰,与1分析相同,在电阻模拟时没有太大干扰,但是与模拟时还有一个很大的区别,就是实际待测溶液系统是由两个烧杯组成,中间用试管连接,这些溶液面积很大,会不会比电阻更容易引入工频干扰。用频率计在电流跟随器输出端测量,发现频率在500-800Hz之间变化,不知是否是高次谐波;
3.电场和磁场干扰:与2分析相容,由于暴露面积很大,容易吸收外界电场或是磁场,从而带来噪声;
4.溶液本身的振荡引起的干扰。
对应处理措施:
第1种可能的处理;尽量减小纹波电压,目前用FLUKE8050 AC档测试电源输出端,有2mV最有交流噪声,不知这样测试和理解是否正确;
第2、3、4种可能无法处理(这也是发此贴的目的),只考虑到两种形式:1.由于干扰信号太大,想在电流跟随器后面处理本人做不到,已经尝试过用低通滤波,但是不可能衰减那么多;2.在电流刚进入电流跟随器是处理,通过串入电感和并联电容进行滤波,但是在这个位置处理的干扰源属于恒流源型,不知能否行得通。
总之,简单的讲,需要解决的问题是从微弱直流中把干扰交流电流滤掉。
以上是本人针对相应问题的分析,有些地方都不知道是否正确,在此还请大家指点。
先将大致原理图更新如下:
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[ 本帖最后由 zl36 于 2010-3-8 12:05 编辑 ]
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