1. 什么是 FRAM?
FRAM 是 ferroelectric random access memory(铁电随机存取存储器)的首字母缩写,它是非易失性存储器,即便在
断电后也能保留数据。 尽管从名称上说,FRAM 是铁电存储器,但它不受磁场的影响,因为芯片中不含铁基材料
(铁)。 铁电材料可在电场中切换极性,但是它们不受磁场的影响。
2. FRAM 较之闪存/EEPROM 具有哪些主要优势?
1) 速度。 FRAM 具有快速写入的特性。 写入到 FRAM 存储器单元的实际时间小于50ns,这超越了所有其他存储器的
类似操作。 这大约比 EEPROM 快 1000 倍。 此外,与需要两步(写入命令和随后的读取/验证命令)才能写入数据的
EEPROM 不同,FRAM 的写入操作与读取操作发生在同一过程中。 只提供一个存储器访问命令,实现读取或写入功
能。 因此,与 EEPROM 写入处理相关联的所有时间实际上在基于 FRAM 的智能 IC 中被有效地消除了。
2) 低功耗。 在低电压下写入 FRAM 单元,并且只需很低的电流即可更改数据。 对于 EEPROM,则需要高电压。
FRAM 使用非常低的电源电压----1.5V,而 EEPROM 则使用 10-14V 电源电压。 FRAM 的低电压意味着低功耗,同时
能够在更快的处理速度下实现更多功能。
3) 数据可靠性。 由于只需要少量能量,因此操作FRAM所需的所有能量在数据写入开始时就被预先加载。 这就避免
了“数据分裂” — 由于能源缺乏的关系导致部分数据在写入时被破坏。基于 EEPROM 的智能 IC 在写周期内被从射频
(RF) 磁场电源中移除时就会出现这种情况。 此外,FRAM 还具有 100 兆次的写入/读取数或更多 ---- 远远超过了
EEPROM 的写入数量。
3. FRAM 在高温环境下的表现如何?
FRAM 是一项非常强大可靠的存储技术,即使在高温环境下也是如此。 在温度为 85 摄氏度时,FRAM 的数据保持时
间超过 10 年。这远远超过政府的身份识别 (ID)卡市场的要求,并展现了 FRAM 的强健耐用的数据保持能力。 FRAM
用于多种汽车电子应用中,并且已经被证明能够耐受极其恶劣条件。
4. FRAM 产品在升级时会有与闪存/EEPROM 相同的问题吗?
与 FRAM 不同,闪存/EEPROM 采用浮栅电荷存储设计,该设计需要高电压和昂贵的、需要大量电能且占空间的电路,
例如晶体管和充电泵。 所有这些传统高压电路的局限性在于不易于升级到越来越小的 IC 处理节点制造工艺。 此外,TI
先进的 130 纳米 (nm) FRAM 制造工艺生产出的芯片比大多数基于闪存和 EEPROM 的嵌入式微处理器所使用的 180 –
220 nm 节点尺寸更小,从而使 FRAM 产品在尺寸、性能和功效方面具有巨大优势。 更需指出的是,FRAM 制造工艺
能够与数字 CMOS 工艺完全兼容,从而使该技术在将来可轻松升级到更小的技术节点。
5. FRAM 会在读取后丢失数据吗?
不会。FRAM 是一款非易失性存储器,即使在断电后也可保持其中的数据。 与可在个人计算机、工作站和非手持游戏
控制台(例如 PlayStation 和 Xbox)的大型(主)存储器中使用的常用 DRAM(动态随机存取存储器)类似,FRAM
也要求在每次读取后进行内存恢复。 进行内存恢复的原因是 FRAM 存储器单元要求在刷新功能中重新写入已访问的每
个位,这一点与 DRAM 相同。 由于 FRAM 具有无穷的写入次数(100 兆次写入/读取周期),因此我们并不需要对这
一点有太多顾虑。
6. 全新的嵌入式 FRAM 存储技术是否带来了新的安全顾虑?
FRAM 已用于不断进化的财务智能卡和机顶盒应用中。 与现有 EEPROM 技术相比,FRAM 在电场、辐射等环境中具
有更强的抗数据损坏能力。超快写入时间和 130 纳米 (nm) 小处理节点使攻击者束手无策。 此外,FRAM 的低功耗
(其读取功耗和写入功耗实际上是相同的)使攻击者更难以使用差分功率分析技术对其进行攻击。
7. FRAM 器件受磁场的影响吗?
常见的一种误解是,人们认为铁电晶体中包含铁或是具有铁磁性或类似属性。 术语“铁电”是指作为电压函数绘制的电荷
图(下图)与铁磁材料磁滞回线(BH 曲线)之间的相似性。 铁电材料不受磁场影响。