FPGA挑战工艺极限 28ns!!

xiaoxin1

FPGA挑战工艺极限 28ns!! [复制链接]

2010 年 2月23日，赛灵思宣将最大限度地发挥 28 纳米技术的价值：https://www.eeworld.com.cn/FPGA/2010/0223/article_982.html
Altera高端的Stratix产品未来无疑将采用TSMC的28nm高性能平台进行生产，中端Cyclone会选择28nm低功耗平台：https://www.eeworld.com.cn/FPGA/2010/0205/article_966.html

Victor Peng 介绍“在 28 纳米这个节点上，静态功耗是器件总功耗的重要组成部分，有时甚至是决定性的因素。由于提高可用系统性能和功能的关键在于控制功耗，因此为了实现最高功效，首先必须选用适合的工艺技术。我们选择了台湾半导体制造有限公司 (TSMC)和三星(Samsung)的高介电层/金属闸 (high-k metal gate)高性能低功耗工艺技术，以使新一代 FPGA 能最大限度地降低静态功耗，确保发挥28 纳米技术所带来的最佳性能和功能优势。”

目前国际集成电路发展不可小视， 28ns的工艺产品如成功，将又拉开我们一个产品代……

再感慨下FPGA厂商、TSMC等的财大气粗，开发新工艺，投入银子不少啊，这也是技术发展的必须！

[ 本帖最后由 xiaoxin1 于 2010-2-24 11:46 编辑 ]