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对 闩锁效应 的一些理解 [复制链接]




其实,正在运行的电路因受干扰或内部出错而僵住于某个状态(类似于电脑的死当),都可算是闩锁效应。

对于恒压源供电的电路,饱和闩锁是不允许的,若电源当恒流源,则截止性闩锁将造成灾难,可控硅及λ二极管都是双稳器件,在模块里头的电路,元件间的隔离通常使用PN结而不是绝缘物,这往往就凑合出「可控硅或λ二极管」来。
狭义的闩锁效应,是指CMOS或IGBT这类器件的 可控硅效应,这专题在网上的图解多的是,我只是把「可控硅」的画法改变,使它更像可控硅而矣(其实也可说是两个IGBT),或者说,是把CMOS跨接于SCS的两个闸极,
跟真正的可控硅一样,这「可控硅」很易受到电源过压(或骤增)的影响,这是闩锁效应的主流因素,但还有一点,按常理,CMOS是不该直通的,但如果有负载,则任何一只MOSFET开通都会有电流,这电流若然老老实实地在MOSFET里通过,那敢情是好,问题是沟道跟衬底一体且阻值相若,沟道电流或会往衬底扩散,任何一只MOSFET开通,这个「SCS」都会被触发,那么,即使不闩锁,电源也被短路!
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实际在MOS管的工作中,怎样判断闩锁效应,实际电路如果避免出现这种情况, pnpn四层器件可以触发关断或防止闩锁,引入了阴极或阳极短路法,而一般的MOS管是怎个处理法?  详情 回复 发表于 2015-9-26 10:16
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闩锁效应是不是应该在版图设计初期就应该考虑呢?
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当然是的,路修得不好还可重筑,半导体元件的打造是没有后悔药可吃的,设计错误或造坏了就只能弃掉。  详情 回复 发表于 2015-9-18 22:40
应该是的,版图里面就有相关的电路等设计,抗ESD,闩锁等。都应该考虑在里面了。具体怎么设计不清楚  详情 回复 发表于 2015-9-12 10:50
 
 

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五彩晶圆(初级)

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以前芯片在做可靠性测试的时候做过一些Latch-up的测试,也了解了一些原理。是楼主说的那种狭义的。网上资料也很多。找了一个比较形象的图描述latch-up原理。
IC的闩锁原理大概就是:IC电源地之间必定存在着若干寄生P-N-P-N(P+-NW-Psub-N+)结构的硅控整流器组件。IO to IO也是。当寄生的硅控整流器被触发导通,使得寄生PNP及NPN晶体管进入正反馈、低阻抗状态时,即使触发源移除,硅控整流器也会维持在闩锁状态,无法自行解除。直至烧毁器件。
触发源可能是过电压、过电流、快速变动的电压电流信号等任何不正常的状态。
一般IC都会有这个抗闩锁的指标。测试的时候一般分为I-test、Vsupply overvoltage。普通IOlatch-up current可以过400mA左右,5V IC电源过压可以到8V。
有公信力的工业标准有以下几个:1、EIA/JEDEC;2、美军标MIL-STD-883;3、AEC美国汽车电子协会。后两个标准中规定latch-up采用EIA/JEDEC标准。貌似就成了一个标准




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ljj3166 发表于 2015-9-12 10:11
闩锁效应是不是应该在版图设计初期就应该考虑呢?

应该是的,版图里面就有相关的电路等设计,抗ESD,闩锁等。都应该考虑在里面了。具体怎么设计不清楚
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为使pnpn四层器件可以触发关断或防止闩锁,引入了阴极或阳极短路法,
在IGBT中,须去除MOSFET的NPNBJT功能,短路要在阴极,在GTO中,需要足够高的通断增益(减小触发功率),短路要在阳极,至于SCS嘛,对称器件对称处理,阴阳两极都短路了,
短路分流分的是功率电流,不能把讯号旁路,故此,短路点的位置,必须远离输入端,也就是说,如果是单个元件,短路跟闸极应各踞一端,若然是多胞体系,则间插排列,我所知的是那么多了。
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ljj3166 发表于 2015-9-12 10:11
闩锁效应是不是应该在版图设计初期就应该考虑呢?

当然是的,路修得不好还可重筑,半导体元件的打造是没有后悔药可吃的,设计错误或造坏了就只能弃掉。
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实际在MOS管的工作中,怎样判断闩锁效应,实际电路如果避免出现这种情况,
pnpn四层器件可以触发关断或防止闩锁,引入了阴极或阳极短路法,而一般的MOS管是怎个处理法?
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CMOS,IGBT及各种非闩锁型的PNPN晶体管 的防闩锁办法,由掺杂,构筑到使用方法都有,网上资料多的是,我没有新方案,至于MOSFET,应该是跟BJT样,三层架构要防也是防穿通吧?
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