本帖最后由 dontium 于 2015-1-23 11:36 编辑 在EEWORLD组织的“我爱模拟之——TI模拟博文深度阅读季”看到一篇关于去耦电容的文章《去耦电容器......是否真的有必要?》网址是
deyisupport./blog/b/signalchain/archive/2013/09/17/51504.aspx
然后又看到了坛友发的帖子,提出了这个退耦电容容量的选择的问题,网址是:
bbs.eeworld../thread-431245-1-1.html
就这个退耦电容容量问题说说自己的浅见。若有不当之处请指出。
电容的容抗为1/(2*pi*f*C),频率越高,阻抗应该越小,但是实际电路中感抗等成分影响,阻抗是先下降,到某个频率后反而变高。电容容量越大,这个转折点越低。
0.1uF瓷片电容在33Mhz以下都是电容特性,33MHz以上交流阻抗反而变大。所以以MCU为中心的数字电路的去耦电容多用0.1μF,因为0.1μF对1MHz~几十MHz频率的阻抗较小,而MCU电路的主频往往就工作在这个范围内。
用0.1uF去耦不是绝对的,如果做100MHz上下的高频电路时,去耦电容要用0.01μF,但同时为不影响低频段的去耦效果,再并上一个1μF电容。相差100倍的电容组合据说是比较合理的。
所以只能说这0.1uf是我们的常用值,具体电路选择多少还需要考虑噪声水平、纹波水平(器件的纹波抑制比)等的影响。
同时这个转折点数值也不是固定的,与电容材质有关。材质这方面的影响我也不太懂,村田电容选型指南中有描述。
附上xilinx的设计手册跟村田电容的选型指南。