我也发表一点儿自己的看法
这个图我按我的思路改了一下,以NPN的管子为例
三极管工作在放大状态时,发射区的这个PN结是正向电压,集电区那个是反向电压。图中红色的是电流方向
当发射区这个PN结接正向电压的时候,这个PN接自然是正向电流,当然这个主要是发射区集的电子向基区流动还有基区的空穴向发射区流动组成。这个电流就是控制电流。这个时候,我们要注意三极管的一个制造条件,那就是发射区的掺杂浓度要远远高于基区的掺杂浓度,一般为几十到上百倍。这样在发射区在正向电场的作用下大部分电子都向基区移动,但只有很少电子和空穴复合。这时候提一下三极管制造的另一个条件,就是基区的厚度很薄,都在微米级,这样没有复合的电子就会聚集到和集电区的相邻的地方,虽然集电区的多子也是电子,但别忘了一个条件,就是集电加的是反向电压,即集电区处于高电位,因此这些多于的电子以及原来集电区的电子均会向高电位方向移动,形成电流,从而形成图中红色向下的电流,当然图中忽略了另外一个小电流,你应该知道是哪儿的。这里应该说一下三极管制造的第三个条件,即集电区的面积要大于发射区,这样才能保证多于的电子全部被集电区收集,形成固定的电流。在这里,大家同时应该也明白了发射区和集电区名字的含义了吧,一个是发射电子,一个收集电子。由于发射区向基区运动的电子复合的部分和未复合的部分是成比例的,因此基区到发射区的电流和发射区通过基区再到集电区的电流应该也是成比例的,这个比例应该就是基区和发射区的掺杂浓度比,应该就是三极管的β值。
当然实际工作时集电极的电流还有其他部分,但一般很小, 在这里我就忽略了。希望大家能看明白!
请大家特别注意三极管制造的三个必备条件:1、发射区的掺杂浓度要远远高于基区的掺杂浓度,一般为几十到上百倍;2、基区的厚度很薄;3、集电区的面积要大于发射区。
[ 本帖最后由 jishuaihu 于 2011-11-8 10:11 编辑 ] |