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晶体管怎么由基极电流控制其所处区域? [复制链接]

 

晶体管有三个区域,截止区,放大区,饱和区,在模拟电路中要避免晶体管进入截止区和饱和区,而在数字电路晶体管处在截止区和饱和区,由晶体管的传输特性曲线,是否可以理解为当基极电流很小或者很大时,晶体管处在截止区和饱和区,当基极电流处在某个范围之内晶体管处在放大区?

对晶体管来说,处在截止区集电极电流很小,处在放大区集电极电流只和基极电流成比例,处在饱和区集电极电流不受基极电流控制。是否可以近似认为由基极电流控制晶体管的状态?而且有截止区向饱和区转移必须经过放大区?这也是IGBT开通的一部分过程?

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【是否可以理解为当基极电流很小或者很大时,晶体管处在截止区和饱和区,当基极电流处在某个范围之内晶体管处在放大区?】

看看双极型三极管的传输特性曲线,全有了。

注意:三极管是否处于饱和,不仅与基极电流有关,还与集电极电压有关。

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楼主先别给自己画圈圈束缚自己

先把晶体管分为在模拟电路和数字电路的如何如何

晶体管是通过基极,对于NPN或PNP型晶体管的电流来控制集电极与发射极之间的电流,这是对的。

晶体管的工作状态取决于基极电流的大小,也包括集电极-发射极之间的电压Vce。

 

 

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模拟电路,希望晶体管工作在放大区,避免非线性的失真。

数字电路中,被用作开关,因此会使其工作在截止区和饱和区之间切换。

 

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数字电路中,具体转换是,基极电流足够大时,晶体管进入饱和区,作为闭合的开关

基极电流非常小或没有时,进入截止区,作为打开的开关。

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主要是晶体管和MOS管的转移特性曲线有很大区别,容易搞混; 1、晶体管的饱和区是指两个PN结均为正向偏置,集电极-发射极电压基本上视为常数或者是饱和的; 2、而MOS管的饱和区是指MOS管晶体管工作在沟道仅在源  详情 回复 发表于 2024-8-18 15:02
 
 
 
 

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本帖最后由 乱世煮酒论天下 于 2024-8-18 15:46 编辑
qwqwqw2088 发表于 2024-8-18 08:55 数字电路中,具体转换是,基极电流足够大时,晶体管进入饱和区,作为闭合的开关 基极电流非常小或没有时 ...

主要是晶体管和MOS管的转移特性曲线有很大区别,容易搞混;

1、晶体管的饱和区是指两个PN结均为正向偏置,集电极-发射极电压基本上视为常数或者是饱和的;

2、而MOS管的饱和区是指MOS管晶体管工作在沟道仅在源区连续而漏区被夹断的模式下,这时漏极电流基本上都可以视为常数或者说是饱和的;

MOS管栅极电压控制沟道电阻,当栅极电压很小达不到阈值门槛电压的时候,MOS管工作在截止区;当栅极电压很大的时候,沟道电阻很小,MOS管工作在可变电阻区,即此时MOS管沟道电阻完全由栅极电压控制,可以看作一个压控电阻;当MOS管栅极电压在一定范围内,漏源极电压也存在于一定范围时,MOS管工作在放大区或者叫夹断区,漏极电流基本完全由栅极电压控制,漏源极电压基本不会影响漏极电流,可以看作一个压控恒流源。

从MOS管和晶体管的转移特性曲线,再结合MOS管和晶体管合成IGBT,分析IGBT的开通工作过程,想到两种过程不知道哪种是对的:

1、当栅极电压达到阈值电压时,MOS管先开通,此时栅极电压是否是要快速达到一个很大的值,使得MOS管快速进入可变电阻区,使得MOS管源漏电阻很小,这时使得IGBT的集电极C经过MOS管源漏电阻形成一个很大的基极电流,这个很大的基极电流使得晶体管进入饱和区,饱和的晶体管CE电压很小基本在0.3到0.5V之间,满足了使用晶体管的优点饱和压降低;

2、当栅极电压达到阈值电压时,MOS管先开通,但是此时MOS管进入恒流区,就是MOS管进入夹断区,当然这个电流也可以很大,集电极电压相对于MOS管的漏极电压只高出一个二极管压降的电压,这个MOS管虽然工作在夹断区,但是漏极电流很大使得晶体管也快速进入饱和区,使饱和的晶体管饱和压降很小。

 

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MOS管是单极型晶体管,由栅极和源极之间的电压控制 IGBT是MOS管和一个PNP管整合的,是栅极驱动器,控制PNP晶体管的导通和截止的, 二者不一样,别混淆 这种书上网上手机上随便可以查得到。  详情 回复 发表于 2024-8-18 17:13
这种长篇大论的问题,一定是从那里复制过来的。 读了几篇,两种描述都是对的,只是侧重点不同。 一种是MOS管在开通初期的作用,另一过程则侧重于MOS管在夹断区工作时对晶体管饱和的直接影响。  详情 回复 发表于 2024-8-18 17:04
 
 
 
 

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本帖最后由 qwqwqw2088 于 2024-8-18 17:18 编辑
乱世煮酒论天下 发表于 2024-8-18 15:02 主要是晶体管和MOS管的转移特性曲线有很大区别,容易搞混; 1、晶体管的饱和区是指两个PN结均为正向 ...

这种长篇大论的问题,一定是从那里复制过来的。

读了几遍,两种描述都是对的,只是侧重点不同。

1是说MOS管快速进入可变电阻区对晶体管基极电流的影响,
2是说MOS管在恒流区(IGBT中的夹断区)对晶体管饱和的影响

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需要纠正一下,

MOS管好像没有“夹断区”这个术语,这是IGBT的工作区域,

在MOS管中,是用“饱和区”来说漏极电流基本恒流的

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乱世煮酒论天下 发表于 2024-8-18 15:02 主要是晶体管和MOS管的转移特性曲线有很大区别,容易搞混; 1、晶体管的饱和区是指两个PN结均为正向 ...

MOS管是单极型晶体管,由栅极和源极之间的电压控制
IGBT是MOS管和一个PNP管整合的,是栅极驱动器,控制PNP晶体管的导通和截止的,
二者不一样,别混淆

这种书上网上手机上随便可以查得到。

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IGBT是MOS管和晶体管整合而成的,IGBT的开通是否可以看作开通MOS管进而开通晶体管的过程?  详情 回复 发表于 2024-8-18 17:27
 
 
 
 

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qwqwqw2088 发表于 2024-8-18 17:13 MOS管是单极型晶体管,由栅极和源极之间的电压控制 IGBT是MOS管和一个PNP管整合的,是栅极驱动器,控制P ...

IGBT是MOS管和晶体管整合而成的,IGBT的开通是否可以看作开通MOS管进而开通晶体管的过程?

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【IGBT是MOS管和晶体管整合而成的】 类似的使用两个双极型三极管【整合】成一个管子,叫复合管。达林顿管即复合管之一。  详情 回复 发表于 2024-8-18 18:23
【IGBT的开通是否可以看作开通MOS管进而开通晶体管的过程?】 可以。  详情 回复 发表于 2024-8-18 18:00
 
 
 
 

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乱世煮酒论天下 发表于 2024-8-18 17:27 IGBT是MOS管和晶体管整合而成的,IGBT的开通是否可以看作开通MOS管进而开通晶体管的过程?

【IGBT的开通是否可以看作开通MOS管进而开通晶体管的过程?】

可以。

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乱世煮酒论天下 发表于 2024-8-18 17:27 IGBT是MOS管和晶体管整合而成的,IGBT的开通是否可以看作开通MOS管进而开通晶体管的过程?

【IGBT是MOS管和晶体管整合而成的】

类似的使用两个双极型三极管【整合】成一个管子,叫复合管。达林顿管即复合管之一。

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