本帖最后由 lll00214 于 2023-7-12 23:06 编辑
芯片制造业可以说是制造业中十分复杂与精细的工作,从硅晶圆到芯片中间需要经历许多的流程,在这些流程中我比较感到惊奇的是光刻,在我看来光刻技术就像外星科技一样。在晶圆上均匀涂上光刻胶,然后光刻机的光源发出深紫外与极紫外光透过光罩,将掩膜板上的电路结构图案缩小并聚焦到光刻胶图层上。通过光刻给光刻胶塑形。感觉就像自制PCB板中的绿油层那样,我记得以前自己制作PCB板的时候是先给板子均匀涂好绿油,然后用个东西将不想要留下来的绿油盖住,然后用紫外灯光照射他,被照射到的绿油层就固化了,没有照到的就用清洗剂洗掉,这样就留下了想要的绿油阻焊层。感觉有点相似。芯片后边的蚀刻,可以从硅表面去除不需要的材料,只留下3D的电路图,感觉非常神奇。后边的离子注入等步骤进行参杂,感觉对仪器的要求非常高。怪不得说光刻机非常难造,一直不明白荷兰这个欧洲小国,风车上的国家为啥能造光刻机。书中介绍了一些历史原由,从书中来看光刻机的历史并不长,1980年日本尼康推出的首个商用式光刻机,距今也才四十多年,其设计人员估计都还在世。从时间上来看国内二十年内想自己造出先进制程光刻机也并非不可能,书中说iAMSL愿意使用华裔科学家的浸润式微影技术实现弯道超车,ASML也是借了美国的东风才能快速发展的。感觉那个时代的美国还是有一定魄力的愿意扶持一个欧洲小国,虽然也是一个提线傀儡罢了,并且能联合几个国家一块做研究。从现在的国际环境上来看,感觉现在各国都在互相提防,不肯敞开心扉合作。我们常说人类命运共同体,希望大家能摈弃偏见一起合作。