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曝光控制系统
曝光控制系统输出新的积分时间，同时输出阻尼因数防止过快的响应。如果允许，模拟和数字增益值将会被同时选择。这个控制系统同时会监控暗数据。如果曝光目标选择模块提示曝光应该增加，但是暗电流超过用户定义的阈值，控制系统将会调整当前积分时间。被包含在下图的虚线框中的自动数字和模拟增益和曝光限制 都在图30中更详细的介绍，控制自动曝光在页44中详细介绍

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曝光控制变量
EvNewExp目标比率转换为EV单位。可能正或负，以EV单位时，>0表示曝光增加，<0表示曝光减少
RecursiveDamp 抑制参数，应当>0,<1. 如果<0将会远离目标，如果大于1将会超过目标。
EvNewExp_damped   EV单位的新的曝光步骤，可能正或负
NewExpRatio  以比例表示的新的曝光步骤，应该为正的。作为比例，>1表示曝光增加，<1表示曝光减少
NewExp 新的曝光以行积分或者可以以ms表示 *依靠系统剩余部分

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自动曝光控制
使能自动曝光
可以配置寄存器来使能自动曝光控制的多个特性
R0x3100[0].  The auto exposure block
默认情况下，AEC只会修改积分时间来到达目标曝光，如果使能的话，也会调整模拟增益和数字增益
auto_ag_en (R0x3100[1] = 1),

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控制自动曝光
基于用户定义的ROI区域中的Gr像素，可以收集到直方图和计算出统计数据
ROI区域由ae_roi_x_start_offset, ae_roi_y_start_offset, ae_roi_x_size and ae_roi_y_size 定义
以上值必须是偶数

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ae_luma_target_reg 设置目标鲁马值
AE目标选择模块会使用这个值来决定目标比例，这个比率会提供给曝光控制系统(图28 页43)使用。
ae_max_exposure_reg ~ ae_min_exposure_reg  限制曝光范围
积分时间反馈给传感器数字模块（图24，页38），将不会落在定义的范围外
为拓展曝光范围，AE逻辑能自动的调节模拟增益和数字增益。控制使能自动模拟/数字增益寄存器（表19 页44）。控制流程图如下：其也是页43的图28的展开

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由于最近要做AF自动对焦，所以暂时不研究AE了，本贴暂时不更新

minghui2009

您好，能分享一下AR0144 Developer Guide文档吗？