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一粒金砂（初级）

楼主

发表于2009-9-5 12:03 只看该作者

光刻为什么用光刻胶，可不可以直接刻蚀SiO2 [复制链接]

光刻为什么用光刻胶，可不可以直接刻蚀SiO2

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kpliu

我实验室专业从事各种镀膜、曝光、刻蚀研究，可附带从事加工服务。镀膜厚度15纳米~1000纳米，同时可进行膜层厚度测试；其中磁控溅射材料可以为Cr、Ag、Al、Al2O3、ZnO、SiO2、Si、Si3N4，电子束蒸镀可以为Ag、Au、Al、Cr。刻蚀有RIE和IBE，刻蚀厚度为20纳米~5微米。有需要的可以联系，可根据客户要求加工。欢迎来电咨询！联系电话： 15108299816赵工邮箱：zyy44138172@126.com 详情回复发表于 2011-2-23 16:24

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zhp3245

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一粒金砂（初级）

沙发

发表于2009-9-5 12:41 只看该作者

直接刻蚀一般不用光刻吧，常用干法刻蚀

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mjj19680827

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一粒金砂（初级）

板凳

发表于2009-9-5 17:36 只看该作者

不懂.....可能是因为用的化学方法,要把保留的部分盖起来....盖子的形状,用感光的方法形成......

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kpliu

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一粒金砂（初级）

4楼

发表于2011-2-23 16:23 只看该作者

光刻可以以直接刻石英----激光刻蚀或聚焦离子束刻蚀。

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kpliu

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一粒金砂（初级）

5楼

发表于2011-2-23 16:24 只看该作者

我实验室专业从事各种镀膜、曝光、刻蚀研究，可附带从事加工服务。

镀膜厚度15纳米~1000纳米，同时可进行膜层厚度测试；其中磁控溅射材料可以为Cr、Ag、Al、Al2O3、ZnO、SiO2、Si、Si3N4，电子束蒸镀可以为Ag、Au、Al、Cr。

刻蚀有RIE和IBE，刻蚀厚度为20纳米~5微米。

有需要的可以联系，可根据客户要求加工。

欢迎来电咨询！

联系电话：

15108299816赵工邮箱：zyy44138172@126.com

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