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一粒金砂(初级)

国产光刻机技术突破28nm工艺,技术水平已经超过日本 [复制链接]

目前,我国是世界上半导体需求量最多的国家,需求已超全球的1/3,但是我国的半导体集成电路大部分都是依靠国外进口,因我国半导体行业起步较晚,加上国外对我们的技术封锁,现阶段,我国还无法制造独立自主知识产权的芯片技术

从古至今,落后就要挨打,正因为我国半导体行业起步落后,才一直遭受国外技术压制,让我们明白了产品自主研发的重要性,目前,上海微电子研制成功28nm光刻机技术,要知道上海微电子成立至今不到20年,能有如今的成绩无疑是给国产芯片带来了希望。

当然,以我们目前的技术还不不能与荷兰的ASML公司相比较,因为ASML公司的技术是整个西方世界的技术整合,而现在的上海微电子属于自主研发的完整产业链,已经超过了日本的中高端市场

现阶段,上海微电子已经研制了22nm工艺的光刻机,相信不久后我们将使用属于自己生产国产光刻机,而不是依靠国外技术。实现自给自足的生产理念。

上海微电子22nm光刻机是行业中很明显的一大跨越,并且技术已超越日本,成为位居荷兰之后的全球第二位,虽然荷兰光刻机的零部件和技术大多都包含美国的专利,但想要彻底压制我们也不是件容易的事情,相信我们的技术并不比国外落后多少,相信我们很快就能扭转行业市场发展的局势

虽说荷兰光刻机的技术是全球最先进的工艺,但是它的发展比中国早几十年,并且零部件和技术大多是西方国家整合起来的。中国起步较为落后,但就目前光刻机的发展来说,应该国外技术和零部件方面仅占总产品的3%,相信只要中国科枝不懈努力不久的将来国产光刻机技术及制造一定赶超荷兰,相信这只是时间问题。

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